【特許情報】
令和3年12月28日に出願した“生成装置”に関する特許が登録されました。
生成装置とはクリーン・リフレを生成する為の装置クリーン・ファインのことです。
装置内には、クリーン・リフレを生成する上で必要不可欠な隔膜が設置されています。
隔膜の破れ等、損傷が生じてしまうと弊社の基準に合致したクリーン・リフレを生成することができず、その都度、内部部品の取替を行う必要がありました。
本発明の技術によって部品の一部を膜保護構造にする事で、隔膜の損傷を抑制できます。
そうなれば部品交換の手間が減り、経費削減とトラブル減少に繋がります。
当特許を用いた新製品の実現に向けて励んでまいります。
